NXQ4006光刻機（lithography）又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。通俗易懂的說，光刻機就是在制造芯片時*的工具，沒有光刻機就沒有芯片。

　　NXQ4006光刻機工作過程詳細介紹

　　1.打開NXQ4006光刻機電源開關，（右表板上標有“電源”字的開關），燈亮，氣壓表顯示數值。

　　此時檢查左表板上的“系統真空”表，看是否保持真空度≥-0.07MPa以上，否則要檢查漏氣原因并消除之。

　　2.打開汞燈電源（左表板上標有“汞燈”字樣的開關），指示燈亮。

　　此時觀察電流表指針，直到指到4A左右，說明汞燈已點燃。

　　至少要15分鐘以后，汞燈亮度才能穩定，操作者才能進行以下工作。

　　3.調節NXQ4006光刻機氣壓（左表板）

　　觀察進氣壓力，是否≥0.3Mpa，然后調節“給定壓力”=0.1kg/cm2。

　　4.“真空吸版”

　　將版放到版夾盤上，按“真空吸版”開關（面板上標有“吸版”字樣的開關），指示燈亮。版被吸牢。如果“系統真空表”因這一動作而掉表，應查明原因，是否版不平，或者版和版夾盤上有雜物。

　　5.“真空吸片”

　　檢查承片臺表面是否清潔，放上片，按“真空吸片”開關，（面板上標有“吸片”字的開關）燈亮，片被吸牢。

　　如果片的底面不平，片不規則（如碎片）等，片的吸牢程度降低，而且“系統真空表”有掉表現象，如果嚴重，將影響吸片牢度。

　　6.光刻機承片臺上升并使片頂版。

　　NXQ4006光刻機是半導體生產制造的主要生產設備之一，也是決定整個半導體生產工藝水平高低的核心技術機臺。半導體技術發展都是以光刻機的光刻線寬為代表。光刻機通常采用步進式(Stepper)或掃描式(Scanner)等，通過近紫外光(NearUltra-Vi—olet，NUV)、中紫外光(MidUV，MUV)、深紫外光(DeepUV，DUV)、真空紫外光(VacuumUV，VUV)、極短紫外光(ExtremeUV，EUV)、X-光(X-Ray)等光源對光刻膠進行曝光，使得晶圓內產生電路圖案。一臺光刻機包含了光學系統、微電子系統、計算機系統、精密機械系統和控制系統等構件。