光學膜厚儀的薄膜光譜反射系統，可以很簡單快速地獲得薄膜的厚度及nk，采用r-θ極坐標移動平臺，可以在幾秒鐘的時間內快速的定位所需測試的點并測試厚度，可隨意選擇一種或極坐標形、或方形、或線性的圖形模式，也可以編輯自己需要的測試點。針對不同的晶圓尺寸，盒對盒系統可以很容易的自動轉換，匹配當前盒子的尺寸。49點的分布圖測量只需耗時約45秒。用激光粒度分布儀測試膠體的粒度分布時應配合其它檢測手段驗證測試結果的準確性，同時應使用去離子水作為分散介質，防止自來水中的電解質造成顆粒團聚影響測試結果。適用于已知折射率的單一物質粒度分布測試，因此測試前要知道被測樣品的折射率，折射率選取的不同會對測試結果造成一定的影響。

　　光學膜厚儀的主要特點：

　　基片折射率和消光系數測量；

　　薄膜厚度測量，平均值和標準偏差分析；

　　薄膜折射率和消光系數測量；

　　適用于不用材質和厚度的薄膜、涂層和基片；

　　測試數據輸出和加載；

　　直接Patterned或特征機構的試樣測試；

　　可用于實時在線薄膜厚度、折射率監測；

　　波長范圍可選；

　　系統配備強大的光學常數庫和材料數據庫，便于測試和數據分析。

　　光學膜厚儀廣泛應用于各種薄膜，并且還有半導體液晶顯示器等一系列的材料和產品的測量。一般的產品我們可以拿尺來進行測量，對精度要求也不高。但是對薄膜等產品來說，精度是關系到產品的組裝和性能的，所以一定要測量。測量儀功能不能能夠準確的進行測量，還能及時的顯示出數據。

　　其次可以計算薄膜厚度，一般采用光干涉法，薄膜表面或界面的反射光會與從基底的反射光相干涉，干涉的發生與膜厚及折光系數等有關，因此可通過計算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無損、快速的光學薄膜厚度測量技術，我們的薄膜測量系統采用光干涉原理測量薄膜厚度。

　　再次，就是操作方便，效率較高。這種優勢對于薄膜測試的時候是非常重要的，畢竟薄膜測試是一種比較枯燥的工作，如果測試又比較繁雜的話，會使人心情焦躁，難免會影響測試時間和測試結果。而操作方便，容易上手，幾秒鐘內即可完成測量和數據分析，發展潛力巨大。