Plasmionique 支持電子束蒸發和熱蒸發 鍍膜 具有以下顯著特點：

1.多功能材料處理

支持金屬、介電材料和有機材料的蒸發，采用蒸發舟、坩堝籃及低溫擴散池（專為有機材料設計），滿足多樣化實驗需求。

2.緊湊結構與高真空性能

尺寸緊湊（約32英寸寬×22英寸深×24英寸高），沉積腔體直徑8英寸、高14英寸。

配備渦輪泵（80-90 L/s），基礎壓力低至10??~10?? Torr，確保潔凈的沉積環境。

3.自動化與智能控制

計算機控制的可編程電源（0-6 VDC，110A），集成PLASMICON控制軟件，支持工藝配方自動化。

10英寸觸摸屏實時監控，實現全自動沉積流程與數據采集。

4.多樣化加熱源配置

可選金屬舟、籃式加熱器、氧化鋁涂層加熱器及低溫擴散源，適應不同溫度需求。

低溫擴散池配備獨立電源和快門，提升操作靈活性。

5.精密沉積控制

至少一個石英晶體微量天平，精準測量薄膜厚度并控制沉積速率。

6.兼容性與擴展性

支持最大4英寸直徑的基板，滿足常見實驗尺寸需求。

自動化排氣系統，提升操作便捷性。

7.定制化服務

可根據用戶需求提供個性化解決方案，搭配專業團隊的技術支持。

Plasmionique 支持電子束蒸發和熱蒸發 鍍膜 以緊湊設計、高真空性能、智能控制及多材料兼容性為核心優勢，適用于科研與工業領域的精密表面處理與薄膜沉積應用。