ossila紫外臭氧清洗機UVO為實驗室級表面處理設備，通過高功率紫外光源（主波長185nm/254nm）激發臭氧反應，實現高效無損傷清潔。系統操作流程簡明：放置樣品于溫控托盤→關閉艙門→設置清洗時長（≤59分59秒）→啟動運行，即可快速分解有機污染物為揮發性物質，獲得超潔凈表面（接近原子級清潔度）。

核心功能特性

1. 廣譜清洗能力

• 適用基材：石英、硅、氧化硅、氮化硅、金、鎳、鋁、砷化鎵、礬土、玻璃、不銹鋼等

• 去除污染物：光刻膠、樹脂、人體皮膚油脂、溶劑殘留、表面油漬、助焊劑、單分子膜等

2. 多功能工藝應用
   支持表面親水性改良、薄膜沉積預處理、AFM/STM探針清洗、光學元件清潔、表面氧化處理、紫外固化及滅菌消毒等9類工藝。

3. 工程優化設計

• 抽屜式樣品臺（直徑153mm，最大承載厚度12mm）

• LCD雙顯界面（實時顯示已用時間/剩余時間）

• 四燈管陣列配置（燈管尺寸150×15mm）

• 安全聯鎖機制（運行中艙門鎖定防護）

ossila紫外臭氧清洗機UVO技術參數說明

1. 紫外燈類型：配置4支合成石英紫外燈管

2. 波長輸出：雙波段185nm與254nm協同作用

3. 燈管尺寸：單支尺寸150mm（長）×15mm（直徑）

4. 驅動參數：4000V高壓供電，工作電流30mA

5. 電源規格：標準版230V/0.6A/50Hz，可選配110V/1.2A/60Hz版本

6. 使用壽命：T80標準下2000小時，常規實驗室使用周期8-10年

7. 設備尺寸：長300mm×寬204mm×高227mm

8. 安全防護：三重保護（機械聯鎖、超溫報警、自動斷電）

紫外臭氧清洗原理：

紫外臭氧清洗是一種光敏氧化過程，其中短波紫外線輻射被有機分子吸收以將其從表面分離  (通過與臭氧分子的化學反應)。這是一種非常好的技術， 用于清洗基材表面的樹脂，清潔 溶劑的殘留物，助焊劑，油以及表面消毒等，所有這些有機污染物都會影響樣品表面的性能。 與其他清潔技術(例如氧等離子體處理) 不同，紫外臭氧清洗不會導致樣品表面損傷。

紫外臭氧系統使用高強度紫外光源， 用 185nm 和 254nm 兩種波長的光照射目標表面。系統 內存在的分子氧(O2) 通過波長小于 200 nm 的紫外線輻射分離產生兩個氧自由基(O•)。這 些自由基中的每一個隨后可以與另外的分子氧反應產生臭氧(O3)分子。未被殘余氧吸收 的 200nm 以上的 UV 輻射，會被基材表面上存在的有機化學污染物強烈吸收，一旦被吸收， 這會導致活性或有機自由基的產生。這些反應性有機物質在與不穩定的臭氧分子接觸時，會 導致揮發性物質如 CO2 ，H2O ，N2  和短鏈有機化合物的形成。這些揮發性化合物可以很容 易地從表面上分解吸收， 保持基材的清潔。