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Dake壓片機可以在制藥、食品、化學工業等行業中使用，可以將具有壓片性的粉末壓制成各種片狀，例如圓形、環狀、其他異形片。據業界介紹，回轉壓片機方便，用戶調整后可以大量生產。其中，大型旋轉式壓力機每小時的生產張數可以達到30000-40000張，小型旋轉式壓力機有XYP-5、XYP-7、XYP-9三種規格，分別有5、7、9個子模具，產量一般為9000與大型旋轉式壓片機相比，小型旋轉式壓片機具有外形簡潔、重量輕、體積小、不占用空間等優點，片劑薄、壓力大、壓片速度也可根據客戶要求自...

MicroChem光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時，若采用適當的有選擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類。在光刻膠工藝過程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來，該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來，而未曝...

德國AlphaPlasma等離子去膠機去膠工藝是微加工工藝過程中一個非常重要的工藝環節。在光刻工藝之后，我們往往需要面臨顯影后的底膠去除或者干法蝕刻工藝后變性的光刻膠的去除工作，這些環節中光刻膠去除的是否干凈*以及對樣片是否有損傷等將直接影響到后續工藝的進行以及器件的性能。在微電子封裝的生產過程中，由于指印、助焊劑、各種交叉污染、自然氧化等，器件和材料表面會形成各種沾污，包括有機物、環氧樹脂、焊料、金屬鹽等。這些沾污會明顯地影響封裝生產過程中的相關工藝質量。使用等離子體清洗可...

硅片清洗設備自動化程度高,腐蝕清洗裝置主要由水平通過式腐蝕清洗主體(槽體部分/管路部分等),移動機械傳送裝置,CDS系統，抽風系統,電控及操作臺等部分組成;進口優質透明PVC活動門（對開/推拉式），保證設備外部環境符合勞動保護的相關標準，以保證設備操作人員及其周圍工作人員的身體健康；機械臂定位精度高;整體設備腐蝕漂洗能力強,性能穩定,安全可靠;設備成本合理,自動化程度高,使用成本低;結構合理,適宜生產線上大批次操作.硅片清洗設備的運行管理是指設備在整個生產過程中的管理，即從選...

在線測厚儀的特點微電腦控制系統，大液晶顯示、PVC操作面板，方便用戶進行試驗操作和數據查看。嚴格按照標準設計的接觸面積和測量壓力，同時支持各種非標定制。測試過程中測量頭自動升降，有效避免了人為因素造成的系統誤差。支持自動和手動兩種測量模式，方便用戶自由選擇。系統自動進樣，進樣步距、測量點數和進樣速度等相關參數均可由用戶自行設定。實時顯示測量結果的Z大值、Z小值、平均值以及標準偏差等分析數據，方便用戶進行判斷。配置標準量塊用于系統標定，保證測試的精度和數據一致性。系統支持數據實...

硅片清洗機的作用1.設置里面儲罐冷凍系統，有效防范溶劑揮發2.建立液位控制系統，保證設備正常運行3.設置溶劑加熱和數字顯示溫度控制裝置，保證直觀和準確的溫度控制4.建立快速冷凍干燥系統，以實現工件的快速冷凍干燥5.建立溶劑過濾系統以此降低研發設計成本6.建立溶劑蒸餾回收系統以保持溶劑的純度和再生硅片清洗機物理清洗有三種方法：①刷洗或擦洗:可除去顆粒污染和大多數粘在片子上的薄膜。②高壓清洗：是用液體噴射片子表面，噴嘴的壓力高達幾百個大氣壓。高壓清洗靠噴射作用，片子不易產生劃痕和...

等離子體處理儀是通過利用對氣體施加足夠的能量使之離化成為等離子狀態，利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等的目的。等離子體是指電離氣體，是電子、離子、原子、分子或自由基等粒子組成的集合體。清洗時高能電子碰撞反應氣體分子，使之離解或電離，利用產生的多種粒子轟擊被清洗表面或與被清洗表面發生化學反應，從而有效地清除各種污染物；還可以改善材料本身的表面性能，如提高表面的潤濕性能和改善膜的粘著力等，這在許多應用中都是非常重要的。等離子體處理儀具有以下明顯...